[监管审批]SiC功率器件生产线建设项目  

SiC功率器件生产线建设项目 属电子行业,项目代码 2207-350205-06-02-858369,立项类型为备案,建设性质为扩建,所属地区为福建省-厦门市。项目总投资150000万,预计2022-07开工,2025-06竣工,建设规模及内容包括项目位于福建省厦门市海沧区兰英路99号,建筑面积65985.98平方米,用地面积45680.817平方米, 本项目在厦门士兰明镓现有芯片生产线厂房内及配套设施的基础上,引进具有国际先进水平的光刻机、刻蚀机、高温氧化炉等设备以及配套SiC厂房装修和动力设备扩容等,形成年产14.4万片SiC功率器件芯片的生产能力;主要产品类别为:SiC MOS ,SiC SBD芯片, 采用SiC深槽刻蚀、高温氧化/退火/注入、多层栅介质工艺、SiC金属欧姆接触形成等工艺技术,以及SiC MOSFET工艺集成制造技术等,达产后预计实现年不含税销售收入209,742万元。该项目于2022-08-18经厦门市海沧生态环境局审批已办结(正式出文)。注册后免费查看项目建设地点及业主信息。
所属行业电子项目代码2207-350205-06-02-858369
申报时间2022-08-18立项类型备案
所属地区福建省-厦门市建设地点
注册后免费查看 >
项目总投资(万)150000资金来源--
建设性质扩建建设年限--
计划开工时间2022-07计划竣工时间2025-06
主要建设规模/内容项目位于福建省厦门市海沧区兰英路99号,建筑面积65985.98平方米,用地面积45680.817平方米, 本项目在厦门士兰明镓现有芯片生产线厂房内及配套设施的基础上,引进具有国际先进水平的光刻机、刻蚀机、高温氧化炉等设备以及配套SiC厂房装修和动力设备扩容等,形成年产14.4万片SiC功率器件芯片的生产能力;主要产品类别为:SiC MOS ,SiC SBD芯片, 采用SiC深槽刻蚀、高温氧化/退火/注入、多层栅介质工艺、SiC金属欧姆接触形成等工艺技术,以及SiC MOSFET工艺集成制造技术等,达产后预计实现年不含税销售收入209,742万元
相关办理结果
相关办理结果
审批部门审批事项审批结果审批时间
厦门市海沧生态环境局环境影响报告表审批已办结(正式出文)2022-08-18