SiC功率器件生产线建设项目(厦门士兰明镓化合物半导体有限公司) 大型

项目概况

工程地区

福建省-厦门市-海沧区项目类型其他公共建筑
项目阶段立项建设性质改扩建
甲方类型--外资类型--
层高--建设周期2022年3季度 - 2025年2季度
投资金额(万元)150000

更新时间

2023-11-15 (发布:2023-11-14)
项目地址
项目描述
项目位于福建省厦门市海沧区兰英路99号,建筑面积65985.98----米,用地面积45680.817----米, 本项目在厦门士兰明镓现有芯片生产线厂房内及配套设施的基础上,引进具有国际先进水平的光刻机、刻蚀机、高温氧化炉等设备以及配套SiC厂房装修和动力设备扩容等,形成年产14.4万片SiC功率器件芯片的生产能力;主要产品类别为:SiC MOS ,SiC SBD芯片, 采用SiC深槽刻蚀、高温氧化/退火/注入、多层栅介质工艺、SiC金属欧姆接触形成等工艺技术,以及SiC MOSFET工艺集成制造技术等,达产后预计实现年不含税销售收入209,742万元

项目主要材料设备

暂无材料信息
项目工期及阶段
截止目前2023年11月14日,该项目处于立项阶段,预计2022年3季度开工

项目动态

甲方联系人