工程地区 | 福建省-厦门市-海沧区 | 项目类型 | 其他公共建筑 |
项目阶段 | 立项 | 建设性质 | 改扩建 |
甲方类型 | -- | 外资类型 | -- |
层高 | -- | 建设周期 | 2022年3季度 - 2025年2季度 |
投资金额(万元) | 150000 | 更新时间 | 2023-11-15 (发布:2023-11-14) |
项目地址 | |||
项目描述 | 项目位于福建省厦门市海沧区兰英路99号,建筑面积65985.98----米,用地面积45680.817----米, 本项目在厦门士兰明镓现有芯片生产线厂房内及配套设施的基础上,引进具有国际先进水平的光刻机、刻蚀机、高温氧化炉等设备以及配套SiC厂房装修和动力设备扩容等,形成年产14.4万片SiC功率器件芯片的生产能力;主要产品类别为:SiC MOS ,SiC SBD芯片, 采用SiC深槽刻蚀、高温氧化/退火/注入、多层栅介质工艺、SiC金属欧姆接触形成等工艺技术,以及SiC MOSFET工艺集成制造技术等,达产后预计实现年不含税销售收入209,742万元 | ||
项目主要材料设备 | 暂无材料信息 | ||
项目工期及阶段 | 截止目前2023年11月14日,该项目处于立项阶段,预计2022年3季度开工 |