工程地区 | 江西省-抚州市-南城县 | 项目类型 | 其他公共建筑 |
| 项目阶段 | 立项 | 建设性质 | 新建 |
| 甲方类型 | -- | 外资类型 | -- |
| 层高 | -- | 建设周期 | 2023年4季度 - 2025年4季度 |
| 投资金额(万元) | 3500 | 更新时间 | 2023-07-17 (发布:2023-07-15) |
| 项目地址 | |||
| 项目描述 | 项目生产车间面积约为1000----米, 主要设备有MOCVD、镀膜机、BAR、解理机、芯片测试机等;工艺流程为:外延—光栅刻制—二次外延—台阶制备—三次外延—四次外延—P电极制作—减薄抛光—N电极制作—解理—增透膜、增反射膜制作;项目预计年耗电量50万度,年耗水120吨,达产年300万颗制作芯片生产规模。 | ||
项目主要材料设备 | 暂无材料信息 | ||
| 项目工期及阶段 | 截止目前2023年7月15日,该项目处于立项阶段,预计2023年4季度开工 | ||