集创路199弄4、7、9号楼功能提升项目(上海张江集成电路产业区开发有限公司) 大型
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项目概况
工程地区 | 上海-上海市 | 项目类型 | -- |
| 项目阶段 | 设计 | 建设性质 | 新建 |
| 甲方类型 | 私营企业 | 外资类型 | -- |
| 层高 | -- | 建设周期 | -- |
| 投资金额（万元） | 10639 | 更新时间 | 2026-07-20 （发布：2026-07-20） |
| 项目地址 | |||
| 项目描述 | 集创路199弄4、7、9号楼及地下延伸区域功能提升。其中4号楼（D楼）建筑面积约6550----米，地下延伸区域面积约800----米；7号楼（G楼）建筑面积约4250----米，地下延伸区域面积约700----米；9号楼（J楼）建筑面积约2700----米。 | ||
项目主要材料设备 | 暂无材料信息 | ||
| 项目工期及阶段 | 截止(2026年7月20日)，该项目处于设计阶段 | ||
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