至美半导体科技产业园(黄冈至美印务有限公司)
标签：
项目概况
工程地区 | 湖北省-黄冈市-黄州区 | 项目类型 | 其他公共建筑 |
| 项目阶段 | 立项 | 建设性质 | 新建 |
| 甲方类型 | -- | 外资类型 | -- |
| 层高 | -- | 建设周期 | -- |
| 投资金额（万元） | 40000 | 更新时间 | 2024-04-11 （发布：2024-04-11） |
| 项目地址 | |||
| 项目描述 | 占地面积26807.1----米，建筑面积99801.32----米，建设5栋车间、1栋综合楼及配套地下室，其中1#车间16828.29----米、2#3#4#5车间11438.00----米，综合楼13767.89----米，及配套地下室23170.03----米，新购置各项相关配套设备。 | ||
项目主要材料设备 | 暂无材料信息 | ||
| 项目工期及阶段 | 截止目前2024年4月11日，该项目处于立项阶段，预计2024年2季度开工 | ||
项目动态
甲方联系人
业主
单位：黄冈至美印务有限公司