高品质砷化镓晶片项目(湖北鑫耀半导体有限公司) 大型
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项目概况
工程地区 | 湖北省-黄冈市 | 项目类型 | -- |
| 项目阶段 | 立项 | 建设性质 | 新建 |
| 甲方类型 | -- | 外资类型 | -- |
| 层高 | 1层(地上1层) | 建设周期 | -- |
| 投资金额（万元） | 27230 | 更新时间 | 2025-11-21 （发布：2025-11-21） |
| 项目地址 | |||
| 项目描述 | 拟新建14674平米厂房（生产厂房（丙类）12384平米、原辅料库（戊类）460平米、研发中心1050平米、大宗气站（氢气、氧气、氮气）480平米、化学品库（甲类）300 平米，单层建筑，层高6.0米）。 | ||
项目主要材料设备 | 暂无材料信息 | ||
| 项目工期及阶段 | 截止目前2025年11月21日，该项目处于立项阶段 | ||
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业主
单位： 湖北鑫耀半导体有限公司