高压SiC MOSFET工艺平台建设项目(西安卫光科技有限公司)

项目概况

工程地区

陕西省-西安市-雁塔区项目类型市政公用设施
项目阶段立项建设性质改扩建
甲方类型--外资类型--
层高--建设周期 --
投资金额(万元)9200

更新时间

2023-11-30 (发布:2023-11-30)
项目地址
项目描述
项目拟购置设备8台/套, 包含中束流高温离子注入机、 高温氧化炉、 高温退火炉等设备, 用于SiC芯片生产。 拟升级改造设备3台/套, 包Conceptone、 LAM9600等设备, 用于SiC产品自动精确对位和顺利传输需要。 拟开发重点工艺16项, 包含热氧生长、 PETEOS掩膜淀积等, 用于SiC芯片研制。建成后月产量可达500片。

项目主要材料设备

暂无材料信息
项目工期及阶段
截止目前2023年11月30日,该项目处于立项阶段,预计2023年4季度开工

项目动态

甲方联系人